труба ПНД з шаром силиконового ядра
Силіконовий ядерний шар ПЕВД труби є значним досягненням у технології трубопроводів, поєднуючи стійкість високогустого поліетилену з інноваційною силіконовою інженерією. Ця сучасна система труб має тришарову конструкцію, де силіконовий покращений середній шар розташований між традиційними внутрішнім і зовнішнім шарами ПЕВД. Силіконовий ядром забезпечує виняткову термічну стійкість та покращені механічні властивості, що робить ці труби ідеальними для різних вимагальних застосунків. Дизайн труби дозволяє досягти вищого опору тискам, при чому силіконовий ядром діє як підсилювальний елемент, який покращує загальну структурну цілісність. Внутрішній шар забезпечує гладкий потік рідини та опор мінеральної корозії, тоді як зовнішній шар захищає від навколишніх факторів та фізичних пошкоджень. Ці труби виготовляються за допомогою передової ко-екструзійної технології, що забезпечує рівномірне розподілення шарів та стабільну якість на всьому протязі труби. Силіконовий ядерний шар значно покращує опір труби до поширення тріщин та забезпечує кращу довготривалу продуктивність під сталим тиском. Система особливо добре підходить для мереж водопостачання, промислового пересування рідин та підземних комунікаційних установок, пропонуючи термін служби, який перевищує 50 років при нормальних умовах експлуатації.